等离子清洗机厂家：使用等离子清洗机清洗过程中需要遵守哪些规则？

等离子清洗机厂家：使用等离子清洗机清洗过程中需要遵守哪些规则？

 等离子清洗机工作中还必须遵守：

a、被清洗的零件要整齐地放在运输带上，不许压在滚轮上；

b、在运输带上，被清洗的零件不能堆得过多，以免影响清洗效果。

c、工作后，被清洗的零件不能停放在运输带上， 按停止按钮，使全机停止运行。清洗机 cleaning machine 采用不同的方法清洗包装容器、包装材料、包装辅助物、包装件，达到预期清洁程度的机器。

d、清洗液应定期添加水和一定比例的金属清洗剂以补充消耗，使液面保持在一定高度，如果清洗效果达不到规定的工艺要求时，应全部更换清洗液。

等离子清洗机在打线之前的清洁介绍：

 等离子清洗机是一款全新的高科技产品，它也被称为等离子表面处理设备，它的主要特点是可以达到一个常规清洗所不能达到的效果，同时改善产品的品质问题，也有效的解决了环保的问题。

 等离子清洗机在LED行业的清洗主要是在芯片封装的时候，可以彻底的解决在打线之前的清洁度问题，同时通过等离子设备做表面清洁可以提高焊球剪切强度和引脚拉力强度。

 等离子清洗机的几种频率区别与运用

 常用的等离子体激发频率有三种：激发频率为40kHz的等离子体为超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。 不同等离子体产生的自偏压不一样，超声等离子体的自偏压为1000V左右，射频等离子体的自偏压为250V左右，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，而且三种等离子体的机制不同。

超声等离子体发生的反应为物理反应，射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应，微波等离子体发生的反应为化学反应。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响最大，因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗。而超声等离子则应用于表面除胶、毛刺打磨等处理方面效果最佳，典型的等离子体物理清洗工艺是在反应腔体中加入氩气作为辅助处理的等离子体清洗；氩气本身是惰性气体，等离子体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁。

典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼，容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，从而去除表面的污染物。 以物理反应为主的等离子体清洗，也叫做溅射腐蚀（SPE）或离子铣（IM），其优点在于本身不发生化学反应，清洁表面不会留下任何的氧化物，可以保持被清洗物的化学纯净性，还有一种等离子体清洗是表面反应机制中物理反应和化学反应都起重要作用，即反应离子腐蚀或反应离子束腐蚀，两种清洗可以互相促进，离子轰击使被清洗表面产生损伤削弱其化学键或者形成原子态，容易吸收反应剂，离子碰撞使被清洗物加热，使之更容易产生反应；选用40KHZ超声等离子再加入适当的反应气体，可以有效去除胶质残渣、金属毛刺等等，2.45G的微波等离子常用于科研方面及实验室。