等离子清洗机厂家:航天电子行业会用到等离子体清洗技术吗?
航天电子设备、厚膜混合ic集成电路等,因其尺寸小、电路密集、焊盘间距小、组装密度高等特点,在组装过程中引入了微型。微量的污染物和氧化物,会对胶接性能、电学性能等产生不利的影响,影响其长期可靠性。与传统的超声波清洗、机械清洗不同,不会造成损伤,不会产生振动。主要针对星载厚
组件清洗工艺进行阐述,并对清洗效果进行评价与分析。轻量化,小型化是对航天器电子设备的要求。
随着厚膜技术的发展,厚膜混合ic集成电路(HybridIntergratedCircuits,HIC)逐步取代了传统印刷电路板。电子器件。厚膜混合物目前广泛应用于航天器。
厚膜长管是一种典型的集成芯片,它是混合ic集成电路。选用合理的生产工艺,保证产品的洁净度。而等离子清洗能有效去除微量污染物和氧。
该文主要针对星载厚膜组件的清洗工。说明了该方法,并对效果进行了评价、分析。
离子化清洗过程概述,具有高能量和高活性的微粒(电子,离子,自由基,原子),一种由中性粒子组成的等离子体,与普通固体不同,流体和气体之外的第四种状态。离子体内的微粒活动。高度高,易于与固体表面反应。常用于清洗分子水平的污染物,如去除效果,已得到证实。离子化处理可明显提高物体表面能量,改善浸润性能。因此,航天器中的等离子体清洗技术采用了电子清洗。在天然气产品中的应用越来越广泛。宇宙飞船电子电气以其清洁技术的优势。生产过程中的产品,如微波ic集成电路,混合微电路等。
等离子体清洗技术在产品组装等工艺中得到广泛应用,它是等离子体在产品制造过程中的重要环节。体内做基底或混合物去除微电路产品内部表面的污染物。去除,增强表面活性,有效提高产品品质及可靠性。借助等离子体清洗技术是清洁方法安全可靠,使用该方法生产的宇航产品寿命较长。寿命可靠能满足航天环境下长期使用的要求。经厚膜模组清洗实验,并对其进行配制。经过加速试验,得出如下结论:清洗后的样品经检验。肉眼检测,水滴角检测,X射线照射检测,粘合强度检测。经长期可靠性评估,度检验均满足要求,证明是可行的。过程稳定可靠,符合航天产品的要求。
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真空等离子清洗机可以改变材料的表层活性吗?
下面小编给大家介绍一下真空等离子清洗机的工作原理,由于等离子体中存在电子、离子、自由基等活性粒子,所以它本身就能与固体表面层产生反应。在真空等离子体清洗过程中,主要依靠活性微粒的“附着作用”来达到去除物体表层污渍的目的。从反应机制来看,等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子体状态;气相物质被吸附在固体表层;被吸附基团与固体表层分子反应产生产物分子;产物分子分析形成气相;反应残留物与表层分离。真空等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型,可以处理金属、半导体、氧化物、聚丙烯、聚酯、聚酰亚胺、聚氯乙烯、环氧甚至聚四氟乙烯等多种高分子材料,可以实现整体、局部和复杂结构的清洗。真空等离子清洗还具有以下特点:易于采用数控技术,自动化程度高;具有高精度控制装置,时间控制精度高;正确的等离子清洗不会在表面层产生损伤层,表面质量得到保证;因为是在真空中进行的,所以不会污染环境,保证清洗表面层不会被二次污染。
与湿法清洗相比,等真空离子清洗的优点表现在以下七个方面:
1.等离子清洗后,被清洗的物体已经非常干燥,无需干燥即可送到下一道工序。
2.不使用ODS有害溶剂,清洗后不产生有害污染物,是一种环保的绿色清洗方法。
3.无线电波范围内高频产生的等离子体不同于激光等直射光,方向性不强。因此,它可以深入物体的微孔和凹陷的内部,完成清洁任务。因此,没有必要过多考虑被清洁物体形状的影响,这些难以清洁的部分的清洁效果与氟里昂相似甚至更好。
4.整个清洁过程可以在几分钟内完成,因此具有高效率的特点。
等离子清洗所需真空度约为100Pa,在工厂实际生产中易于实现。这种装置的设备成本不高,加上清洗过程不需要使用价格昂贵的有机溶剂,因此它的运行成本要低于传统的清洗工艺。
5、无需运输、运输、贮藏、排放等处理措施,生产现场容易保持清洁卫生。
6、等离子清洗的最大技术特点是不分处理对象,可以处理不同的基材,金属、半导体、氧化物、高分子材料(例如聚丙烯、聚氯乙烯、四氟乙烯、聚酰亚胺、聚酯、环氧树脂等高分子材料)等等离子材料可以很好地处理而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗。
7、在清除污垢的同时,还可以改变材料本身的表层性能,如提高表层的润性能,改善膜的附着力等,在很多应用领域中非常重要。
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