plasma清洗机能在线使用吗?(等离子清洗设备厂家建议)
回答是肯定的不管是移动电话的键合、外壳的涂饰、密封条的植绒、密封条的喷涂,还是其它,在线使用智造的等离子体表面处理系统已经成为现实。并可根据使用单位生产线的具体要求,将系统与生产线相匹配,既能满足新线又能满足老线改造的需要。假如用户对产品有通常要求,大气在线等离子处理系统可以集成到生产线上。假如用户对产品有更高的要求或特殊的处理材料,也可以制作在线真空等离子处理系统。符合顾客的各种要求。
plasma清洗机处理需要什么特殊的气体?
除压缩空气外,在线加工不需要其他特殊气体。可是,假如使用的是次大气压辉光放电设备,则可充入AR、He等惰性气体,在气氛不同于空气的情况下进行表面处理。反应气在材料表面能产生不同的处理效果,这些属于工艺配方。
延伸阅读:
晶圆加工专用plasma设备表面处理中的应用:
晶圆加工是国内半导体产业链中资金投入较大的一部分,plasma设备目前在硅片代工中应用广泛,智造也有专用晶圆加工等离子体设备。
中国晶圆代工部分在整个半导体产业链上投入了大量资金。具体地说,晶圆代工就是在硅晶圆上制造电路和电子元器件,这一步对于整个半导体产业链来说,技术比较复杂,而且投资领域比较广。plasma设备主要用于去除晶片表面的微粒,彻底去除光刻胶和其他有机化合物,活化及粗化晶片表面,提高晶圆表面的浸润性能等,等离子体设备在晶片表面处理方面的处理效果明显,目前在晶圆加工中广泛使用。
光刻晶圆工艺是整个晶圆代工过程中的一个重要工序。该方法的原理是将一层高光敏感度的阻光层覆盖在晶圆片的表面,随后将自然光穿透掩模照射到晶圆片表面,被自然光照射的阻光剂就会起反应,从而实现电路的移动。
晶圆刻蚀:就是把晶圆表面区域用光阻剂显露出来的过程。它主要分为两种:湿式蚀刻和干式。简而言之,湿式刻蚀仅限于2微米的图形尺寸,而干式刻蚀则用于更为精细、要求更高的电路。
晶圆级封装等离子体处理是一种干式清洗方式,具有一致性好、可控制等特点,目前,plasma设备已逐步在光刻和刻蚀前后道工艺中推广应用。
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