真空等离子表面处理机对产品表面处理效果怎么样？

真空等离子表面处理机对产品表面处理效果怎么样？

真空等离子处理机通过对物体表面进行等离子体轰击，可以达到刻蚀、活化和清洗物体表面的目的。这些表面的粘合和焊接强度可以显著提高。真空等离子处理机目前被应用于液晶显示器、发光二极管、集成电路、印刷电路板、表面贴装、BGA、引线框和平板显示器的清洗和蚀刻。真空等离子处理机的集成电路可以显著提高焊线强度，降低电路故障的可能性。当暴露于等离子体时，残留的光刻胶、树脂、溶液残留物和其他有机污染物可以在短时间内被去除。

印刷电路板制造商使用真空等离子处理机进行净化和蚀刻，以去除钻孔中的绝缘层。对于许多产品来说，它们是否用于工业。在电子、航空、健康和其他行业，可靠性取决于两个表面之间的结合强度。无论表面是金属、陶瓷、聚合物、塑料还是它们的复合材料，等离子体都有可能提高附着力和最终产品的质量。等离子体改变任何表面的能力是安全、环保和经济的。这是解决许多行业面临的挑战的可行方案。

真空等离子处理机原理：活性等离子体对物体表面进行物理轰击和化学反应的双重作用，使待清洗物体的表面物质变成颗粒和气态物质，并被抽空以达到表面处理的目的。

在整个等离子体处理过程中，影响等离子体处理效果的因素包括工艺温度、射频功率、气体分布、真空度、电极设置、静电防护等。

在液晶面板行业中，在手机、触摸屏、笔记本电脑显示器等产品的生产过程中，显示屏与柔性薄膜电路之间的连接过去是热压的，即柔性薄膜电路通过加热和加压直接附着在带有连接点的液晶玻璃上。该工艺要求玻璃平面清洁，但在实际生产、储存和运输过程中，玻璃表面容易被污染，如果不清洁，不可避免地会产生指纹或灰尘。这些表面杂质颗粒造成的短路会导致液晶显示器的显示段失效一段时间，这通常表现为显示屏显示缺失或显示紊乱。此外，由于表面张力低，薄膜电路和玻璃之间的粘附性差也会导致故障。解决这一问题的传统方法是用棉签和清洗剂手工清洗液晶玻璃，但这种处理方法会使废品率均高达12%。真空等离子处理机的表面清洗技术用于清洗液晶显示器玻璃，去除杂质颗粒，提高材料的表面能，并将产品的成品率提高一个数量级。同时，由于喷射低温等离子体是电中性的，在加工过程中保护膜、ITO膜层和偏振滤光片不会被损坏。处理过程可以是“在线”的，不需要溶剂，因此更环保。

影响真空等离子设备清洗效果的原因

真空等离子设备是依靠等离子体中特定物质的高能粒子流冲击待清洗物体表面，产生物理冲击(如氩等离子体)或化学反应(氧等离子体)，实现去除物体表面污渍的功能。目前，大多数等离子体清洁系统通过将反应室的压力降低到100帕以下，然后以一定速度引入适当的气体并启动电源来获得等离子体。那么影响真空等离子设备清洗效果的原因有哪些？

一、电极对真空等离子设备清洗效果的影响：

电极的设计对真空等离子设备清洗效果有很大影响，主要包括电极的材料、布局和尺寸。对于内部电极的等离子体清洗系统，由于电极暴露在等离子体中，一些材料的电极会被一些等离子体腐蚀或溅射，造成不必要的污染并导致电极尺寸的变化，从而影响等离子体清洗系统的稳定性。电极布局对等离子体清洗速度和均均匀性有很大影响。较小的电极间距可以将等离子体限制在狭窄的区域，从而获得更高密度的等离子体并实现更快的清洁。随着间距的增加，清洗速度逐渐降低，但均均匀度逐渐增加。电极的尺寸通常决定等离子体系统的总容量。在电极平行分布的等离子体清洁系统中，电极通常用作托盘。较大的电极可以一次清洁更多的部件，提高设备的运行效率。

二、工作压强对真空等离子设备清洗效果的影响：

工作压力是真空等离子设备清洗的重要参数之一。压力的增加意味着等离子体密度的增加和粒子能级均能量的减少。对于以化学反应为主的等离子体，密度的增加可以显著提高等离子体系统的清洗速度，而以物理轰击为主的等离子体清洗系统效果不明显。此外，压力的变化可能引起等离子体清洗反应机理的变化。例如，在硅晶片蚀刻工艺中使用的CF4/O2等离子体在压力较低时起主导作用，并且随着压力的增加，化学蚀刻不断增强并逐渐占据主导作用。

三、电源功率及频率对真空等离子设备清洗效果的影响：

电源的功率对等离子体的各种参数有影响，例如电极的温度、等离子体产生的自偏压和清洁效率。随着输出功率的增加，等离子体清洗速度逐渐增加并逐渐稳定在峰值，而自偏压随着输出功率的增加而不断增加。由于功率范围基本恒定，频率是影响等离子体自偏置的关键参数，自偏置随着频率的增加而逐渐减小。此外，随着频率的增加，等离子体中电子的密度将逐渐增加，而粒子能级均的能量将逐渐减少。

四：工作气体的选择对真空等离子设备清洗效果的影响：

工艺气体的选择是真空等离子设备清洗工艺设计的关键步骤。虽然大多数气体或气体混合物在许多情况下可以去除污染物，但是清洁速度可以相差几倍甚至几十倍。例如，将不同比例的氟化硫(SF6)添加到氧气(O2)中作为工艺气体来清洁有机玻璃。结果如图1所示。从图中可以看出，合理选择工艺气体可以大大提高清洗速度。