等离子清洗机厂家：等离子清洗设备使用清洗法和湿洗有什么区别？

等离子清洗机厂家：等离子清洗设备使用清洗法和湿洗有什么区别？

    低温等离子设备其实也算是干洗法中的一种，和湿法清洗相比之下它具有工艺简单，可控，而且产品可达到一次洗干净，没有残留的目的。

而湿洗法它的Z大的劣势可能就是一次性洗不干净，还会有残留物，使用等离子设备进行的干洗它的反应是需要气体的，而我们所使用的气体大多数是无毒害的，并且湿洗法很多是使用了大量的溶剂，其中也包含了很多的化学成分，对人体都是有害的，对环境也会有影响。【真空等离子设备】

在使用等离子清洗机进行等离子体处理的过程中，它所包括的是两种清洗过程，一种是化学的反应，另一种是物理的反应。

其中以化学反应为主的等离子清洗机具有清洗速度非常快，性能好，选择性高，在对去除有机物，氧化物，以及做表面活化都有着相当好的功效。【卷对卷等离子处理设备】

等离子清洗设备的清洗原理

等离子清洗设备的清洗原理

等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四中状态存在，如地球大气中电离层中的物质。

等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。

等离子清洗机、等离子体特殊性质的具体应用：

【真空等离子设备】等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，这些离子的活性很高，其能量足以破坏几乎所有的化学键，在任何暴露的表面引起化学反应。

不同气体的等离子体具有不同的化学性能，如氧气的等离子体具有很高的氧化性，能氧化光刻胶反应生成气体，从而达到清洗的效果；腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性，这样就能满足刻蚀的需要。利用等离子处理时会发出辉光，故称之为辉光放电处理。

等离子体清洗的机理，主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。

【常压等离子设备】就反应机理来看，等离子体清洗通常包括以下过程：无机气体被激发为等离子态；气相物质被吸附在固体表面；被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子；产物分子解析形成气相；反应残余物脱离表面。

等离子体清洗技术的Z大特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。

容易采用数控技术，自动化程度高；具有高精度的控制装置，时间控制的精度很高；正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层，表面质量得到保证；由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不被二次污染。【卷对卷等离子处理设备】