等离子清洗机进行刻蚀操作表现（等离子清洗机去胶）

等离子清洗机进行去胶操作十分的简单，而且效率高，清洗后的表面洁净光洁、没有任何的划痕、成本低、环保。电介质等离子体清洗机在进行等离子刻蚀时，一般会被应用在电容耦合等离子体平行板反应器上，在平行板反应器中，反应等离子刻蚀腔体所选用的是阴极面积小，阳极面积大的不对称规划，而需要被刻蚀的物件则是被放置到面积较小的电极之上。

在进行等离子刻蚀操作时，其射频电源所产生的热运动会使质量小、运动速度快的带负电自由电子很快抵达阴极，而正离子则是由于质量大、速度慢而很难在同一时刻到达阴极，然后就会在阴极附近构成带负电的鞘层，正离子在这个鞘层的加快之下，就会笔直的轰击在硅片的表面，然后使得表面的化学反应加快，而且会使得反应生成物脱离，因而其刻蚀速度极快，离子的轰击也会使各向异性刻蚀得以实现。

等离子清洗操作方法：将待清洗片刺进石英舟并平行气流方向，推入真空室两电极间，抽真空到1.3Pa，通入恰当氧气，坚持真空室压力在1.3-13Pa，加高频功率，在电极间产生淡紫色辉光放电，通过调度功率、流量等技术参数，可得不一样去胶速率，当胶膜去净时，辉光不见。

等离子清洗机去胶影响要素：

1，频率选择：频率越高，氧越易电离构成等离子体。频率太高，以致电子振幅比其平均自由程还短，则电子与气体分子磕碰概率反而减少，使电离率下降。

2，功率影响：关于必定量的气体，功率大，等离子体中的的活性粒子密度也大，去胶速度也快；但当功率增大到必定值，反响所能耗费的活性离子抵达丰满，功率再大，去胶速度则无显着增加。由于功率大，基片温度高，所以应根据技术需求调度功率。

3，真空度的选择：恰当进步真空度，可使电子运动的平均自由程变大，因而从电场取得的能量就大，有利电离。别的当氧气流量必守时，真空度越高，则氧的相对份额就大，产生的活性粒子浓度也就大。但若真空度过高，活性粒子浓度反而会减小。