摄像头模组plasma除胶机（等离子体表面处理在摄像头模组的应用）

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在经济效益方面，摄像头模组plasma除胶机等离子体表面处理技术的应用效率高高、低运行产品成本，单位耗电量降低30-40%;99.9%降低处理剂的应用成本，相当于不消耗石油，减少自然资源;等离子体表面处理技术采用替代处理剂，避免挥发性有机物质(VOC)的产生，清洁生产环境，更大程度上保障员工健康。

氩气、氦气、氮气等非活性气体。氮处理可以提高材料的硬度和耐磨性。氩气和氦气非常稳定，摄像头模组plasma除胶机分子充放电较低时，很容易产生亚稳态分子。一方面，它们可以利用其高能粒子的物理特性来清理容易被氧化或还原的物体。Ar+轰击污染物，产生挥发性化学物质。清除真空泵表面的污染物，防止表面发生化学反应。氩很容易形成亚稳态分子，当它与氧原子碰撞时，会导致正电荷转化和重组。

1、达因笔测试达因值小，摄像头模组plasma除胶机物体的表面能低，达因值大，物体的表面能大，表面能越大，吸附、附着力越好粘接和涂覆效果越好;Dyne笔可以直接测试物体表面能量的大小，使用方便可靠。电子扫描电子显微镜是电子扫描电子显微镜的简称，它可以将物体表面放大数千倍，并拍摄分子结构的微观照片。3、红外扫描采用红外检测设备，可以检测工件经过等离子体表面处理后，工件表面极性基团和元素组成的组合。

由气体产生的自由基和离子具有很高的活性和能量，摄像头模组等离子体表面处理足以打破几乎所有的化学键，并在任何暴露的表面上引起化学反应。“间接等离子体”或“余辉”治疗“间接等离子体”和“余辉”在意义上相似。它们的区别仅在于气体进入加工室的方式不同。他们的共同特征是,不会产生等离子体处理室,和底物如PCB只是接触的气体流激活和电离.批量生产的设备间接等离子体方法难以控制,几乎无法实现统一的治疗结果。

摄像头模组等离子体表面处理

此外,低功率的偏差/源电源也可以改善的比例第二条纹现象,因为偏见的力量主要控制等离子体离子加速,权力的来源控制等离子体的浓度,低偏压电源可以减少离子轰击能量,高功率的来源会增加大气等离子体清洗机的等离子体密度，从而使离子之间的碰撞比例增加，等离子体的指向性和设备分离减弱同时，高源功率也分解更多[C]，这将产生更多的聚合物，聚集在光刻胶表面，保护光刻胶免受等离子体轰击。

整体清洗过程大致如下:1.清洗过程:将清洗干净的工件送入真空式固定，运行设备启动，排气开始，使真空室中的真空度达到标准真空度10Pa左右。一般的排气时刻需要几分钟左右。将等离子清洗气体引入真空室，保持真空室压力稳定。根据清洗材料的不同，分贝可以使用氧气、氩气、氢气、氮气、四氟化碳等气体。